Conçu pour résister à l'exposition chimique dans des processus avancés de nettoyage de wafers
Les cassettes de wafer en PFA sont conçues pour le transfert, le stockage et le nettoyage en toute sécurité des wafers semi-conducteurs dans des environnements chimiques corrosifs et des applications de processus humide à haute température. Fabriquées à partir de résine perfluoroalkoxy (PFA) ou de Teflon de qualité supérieure, ces supports de wafer offrent une résistance exceptionnelle aux acides forts, à l'acide fluorhydrique, aux solutions alcalines et à une exposition continue à des températures allant jusqu'à 220 °C sans déformation, dégradation ou contamination ionique.
Les surfaces lisses et translucides minimisent la génération de particules, simplifient le nettoyage et maintiennent l'intégrité du wafer tout au long des étapes critiques de fabrication. Les cassettes de wafer en PFA sont compatibles avec les outils de traitement de wafer standard, les bancs humides et les systèmes d'interface SMIF/FOUP, permettant un transfert direct entre les bains d'acide, les graveurs de wafer et les équipements d'inspection. Leur résistance chimique exceptionnelle, leur stabilité dimensionnelle et leur conception ultra-propre les rendent idéales pour le nettoyage, le gravage et le traitement à haute température des wafers dans des fabs semi-conducteurs avancées.